Imagens produzidas por grupo da UFSCar são finalistas em concurso internacional

 

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Obra – Indian Love (Tin Oxide), de Enio Longo


Público pode votar nas melhores imagens de nanoarte até o dia 6 de novembro

 

Um conjunto de imagens produzidas no Centro de Desenvolvimento de Materiais Funcionais (CDMF) (http://cdmf.org.br) – um dos Centros de Pesquisa, Inovação e Difusão (Cepids) apoiados pela Fundação de Amparo à Pesquisa do Estado de São Paulo (Fapesp) – estão entre as 98 finalistas do concurso internacional de imagens científicas “A. J. Drexel Nanomaterials Institute 2017 NanoArtography”. O CDMF, sediado na Universidade Federal de São Carlos (UFSCar), reúne pesquisadores de várias outras universidades e institutos de pesquisa, e é dirigido por Elson Longo da Silva, Professor Visitante no Departamento de Química (DQ) da UFSCar.
Ao todo, são sete as imagens produzidas no CDMF que participam do concurso. Rorivaldo de Camargo produziu as obras “Western” (https://goo.gl/4vhwmS), “Rising up” (https://goo.gl/DnUELy) e “Puzzles” (https://goo.gl/KaT4QD). A obra “Indian Love (Tin Oxide)” (https://goo.gl/gtwisy) tem autoria de Enio Longo, e Ricardo Tranquilin colocou entre as finalistas as obras “Lucky day” (https://goo.gl/7vxceg), “Crown of Lauren” (https://goo.gl/pWiXvS) e “Defreezing Mountain” (https://goo.gl/ir4do2). Todas as imagens são obras de nanoarte, ou seja, produzidas a partir de estruturas em escala nanométrica observadas no microscópio eletrônico.
Na última edição do concurso, o CDMF obteve a terceira colocação, com a obra “Gerbera Flower” (https://goo.gl/xp5x38), de Tranquilin. A premiação do concurso inclui uma categoria de voto popular, em um processo que vai até o dia 6 de novembro, na página do concurso no Facebook (https://goo.gl/ankxWw

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